直流熱等離子

直流熱等離子技術(shù)是目前氟利昂處理方法中最有效和最有發(fā)展前景的熱等離子體技術(shù)。澳大利亞、法國、日本、美國等都在大力發(fā)展該技術(shù)，具有代表性的工藝是由東京電力公司、日本鋼鐵公司、日本電子公司及通產(chǎn)省國家資源與環(huán)境研究所共同開發(fā)的。

澳大利亞的CS1RO公司和SRL Plasm公司也聯(lián)合發(fā)展了PLASCONTh直流熱等離子技術(shù)，但C、CF、CI等副產(chǎn)物殘留以及電極與耐火材料消耗等問題是該技術(shù)與其他直流等離子體技術(shù)共有的有待解決的重要問題。近期發(fā)展起來的高頻電感耦合等離子體(ICP)處理技術(shù)克服了其他直流等離子體技術(shù)中存在的電極消耗與耐火材料消耗等問題。

高頻ICP具有高頻趨膚效應(yīng)，CFCs隨載氣進(jìn)人中心通道，在高溫環(huán)狀等離子體作用下熱解，進(jìn)而與外層支持氣體混合反應(yīng)。高功率高頻ICP可采用空氣或氧氣為支持氣體，大大減少運(yùn)行成本，同時(shí)大量存在的氧氣可進(jìn)一步提高消解效率，當(dāng)應(yīng)用氫氧混合氣作ICP支持氣體,或應(yīng)用水汽與CFCs化合物混合消解技術(shù)時(shí),CF4和CF3CI等含F殘留有可能得到進(jìn)一步降低。在輸出等離子體100kw,等離子體溫度在1x10?℃以上的條件下，高頻ICP對(duì)CFC-12的消解效率大于99.99%，高于直流等離子體技術(shù)(PLASCON)和低頻ICP技術(shù)。

雖然高功率高頻ICP在CFCs處理方面有很大的潛力，但在工作參數(shù)優(yōu)化、現(xiàn)場監(jiān)控等方面還有待進(jìn)一步深入研究。

放電等離子體處理技術(shù)

放電等離子體技術(shù)是通過高電壓放電而獲得等離子體的方法.主要有脈沖放電、沿面放電和無聲放電等。它們處理低濃度廢氣時(shí)比較有效。不同形式的放電等離子體反應(yīng)器分解氟利昂的效率不同，例如脈沖放電等離子體反應(yīng)器處理CFC-113的分解率約為70%，而用高頻波的沿面放電型反應(yīng)器則相應(yīng)分解率大于99%。通過高壓放電來產(chǎn)生等離子體存在爆炸等安全隱患。